煙台電鍍氮（dàn）化硼是一種將氮化硼顆粒（lì）通過
電鍍的方式沉積在基體表麵的技術，能賦予基體材料優異的性（xìng）能，其技術原理主要涉及（jí）電化學原（yuán）理和氮化硼顆粒的（de）共沉積機製。
電化學基礎：
電鍍過程本質（zhì）上是一個電化學氧化（huà）還原（yuán）反應。在煙台電鍍氮化硼體係中，通常采用含有金屬（shǔ）離子（如鎳離子）和氮化（huà）硼顆粒的電鍍液。電鍍槽（cáo）中設置陽極和陰極，陽極一般由待沉積金屬製成，陰極則是需要鍍覆氮化硼（péng）塗層的（de）基體材料。當通入直流電時，陽極發生氧化反應，金屬失去電（diàn）子變成離（lí）子進入電鍍液；而陰極發生還原反應，電鍍（dù）液中的金屬離子得到電子（zǐ）在陰極表麵還原成金屬原子，並逐漸沉積形成金（jīn）屬（shǔ）鍍層。
氮化硼顆粒的（de）分散（sàn）與懸浮（fú）：
要讓氮化硼顆粒能夠均勻地沉積在基體表（biǎo）麵，首先要保證其在電鍍液中能夠良好地分散和懸（xuán）浮。氮化硼顆粒具有疏水性，在水中容易團（tuán）聚。因此，需要對電鍍液進行特殊處理，添加適量的分散劑和表麵活性劑。分（fèn）散劑能夠吸附在氮化（huà）硼顆粒表麵，改變其（qí）表（biǎo）麵電荷分布，使顆粒之間產生靜電斥力，從而防止顆粒團聚；表麵活性劑則（zé）可以降低電鍍液的表麵張力，提高氮化硼顆粒在電鍍液中的潤濕性（xìng），使其更好地分散。
氮化（huà）硼（péng）顆粒（lì）的共沉積：
在煙台電鍍氮化硼過程中，金屬離子在陰極（jí）還原沉積的同時，氮化硼顆粒在電場力、流體攪拌（bàn）力等作（zuò）用下向（xiàng）陰極表麵移動，並被不斷（duàn）生（shēng）長（zhǎng）的金屬鍍（dù）層捕獲，從而實現金屬與氮化硼顆粒的共沉積。通過控（kòng）製煙台電鍍氮化硼工藝參（cān）數，如電流密（mì）度、電鍍（dù）時間、電鍍液溫度以及氮化硼顆粒的濃度等，可以調節（jiē）氮化硼顆粒（lì）在鍍層中的含量和分布（bù），進而獲得（dé）具有不同性能的氮化硼複合鍍層。
